Súbor:Spinner.jpg

Obsah stránky není podporován v jiných jazycích.
z Wikipédie, slobodnej encyklopédie

Pôvodný súbor(641 × 823 pixelov, veľkosť súboru: 63 KB, MIME typ: image/jpeg)

Tento zdieľaný súbor je z Wikimedia Commons a je možné ho používať na iných projektoch. Nižšie sú zobrazené informácie z popisnej stránky súboru.

Popis
English: A spinner is used to apply a thin even coating of photoresist to a silicon wafer so that the pattern on a photomask can be transferred and a circuit can be fabricated. The image shows a wafer of 6" (125 mm) diameter that has been mounted on the vacuum chuck and is ready for spinning. The user dispenses a drop of photoresist in the center of the wafer and the centrifugal force spreads the fluid into an even film, eliminating excess photoresist at the edge of the wafer in the process.
Note that the light in the room really is yellow.
Zdroj Photo taken at HP Labs by Alison Chaiken.
Autor Alison Chaiken
Povolenie
(Využívanie tohto súboru)
Ja, držiteľ autorských práv k tomuto dielu ho týmto zverejňujem za podmienok nasledovných licencií:
GNU head Bolo udelené povolenie kopírovať, širiť a/alebo meniť tento dokument za podmienok GNU Free Documentation License, verzie 1.2 alebo ktorejkoľvek neskoršej verzie publikovanej Free Software Foundation; bez Nemenných častí, bez Textov na prednej obálke a bez Textov na zadnej obálke. Kópia tejto licencie je zahrnutá v časti nazvanej GNU Free Documentation License.
w:sk:Creative Commons
uvedenie autorov meniť za rovnakých podmienok
Tento súbor podlieha licencii Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unported
Môžete slobodne:
  • zdieľať – kopírovať, šíriť a prenášať dielo
  • meniť ho – upravovať dielo
Za nasledovných podmienok:
  • uvedenie autorov – Musíte spomenúť autorov (jednotlivo alebo kolektívne), poskytnúť odkaz na licenciu a uviesť, či ste niečo zmenili. Môžete to urobiť ľubovoľným primeraným spôsobom, ale nie spôsobom naznačujúcim, že poskytovateľ licencie podporuje vás alebo vaše použitie diela.
  • meniť za rovnakých podmienok – Ak toto dielo zmeníte, prevediete do inej formy alebo použijete ako základ iného diela, musíte výsledok šíriť pod rovnakou alebo kompatibilnou licenciou ako originál.
Táto šablóna licencie bola pridaná k tomuto súboru počas aktualizácie licencovania GFDL.
w:sk:Creative Commons
uvedenie autorov meniť za rovnakých podmienok
Tento súbor je licencovaný za podmienok Creative Commons Attribution-Share Alike 2.5 Generic, 2.0 Generic a 1.0 Generic.
Môžete slobodne:
  • zdieľať – kopírovať, šíriť a prenášať dielo
  • meniť ho – upravovať dielo
Za nasledovných podmienok:
  • uvedenie autorov – Musíte spomenúť autorov (jednotlivo alebo kolektívne), poskytnúť odkaz na licenciu a uviesť, či ste niečo zmenili. Môžete to urobiť ľubovoľným primeraným spôsobom, ale nie spôsobom naznačujúcim, že poskytovateľ licencie podporuje vás alebo vaše použitie diela.
  • meniť za rovnakých podmienok – Ak toto dielo zmeníte, prevediete do inej formy alebo použijete ako základ iného diela, musíte výsledok šíriť pod rovnakou alebo kompatibilnou licenciou ako originál.
Môžete si zvoliť ľubovolnú z týchto licencií.

Štítky

Pridajte jednoriadkové vysvetlenie, čo tento súbor predstavuje

Položky prezentované týmto súborom

motív

0.03787878787878787878 sekunda

100

image/jpeg

História súboru

Po kliknutí na dátum/čas uvidíte ako súbor vyzeral vtedy.

Dátum/ČasNáhľadRozmeryPoužívateľKomentár
aktuálna16:19, 29. november 2014Náhľad verzie z 16:19, 29. november 2014641 × 823 (63 KB)SelakantColour correction and contrast enhancement.
02:23, 3. február 2006Náhľad verzie z 02:23, 3. február 2006641 × 823 (62 KB)ChaikenA '''spinner''' is used to apply a thin even coating of photoresist to a silicon wafer so that the pattern on a photomask can be transferred and a circuit can be fabricated. The i

Na tento súbor odkazuje nasledujúca stránka:

Globálne využitie súborov

Nasledovné ďalšie wiki používajú tento súbor:

Metadáta